Topfirmat.fi

Helsingin yliopiston kiinteistöpalvelut Oy

Kiinteistönhoito, Helsingin Yliopisto. Yritys ei ole vielä täydentänyt tietojaan.

Tämä yritys ei ole tehnyt sijoitustarjousta, joten sillä ei ole sijoitusta listalla. Se näkyy toimialansa listalla aakkosjärjestyksessä.

Nosta tämä yritys listalle 5 €

Yritystiedot

Y-tunnus
2838529-9
Yhtiömuoto
Osakeyhtiö
Toimiala
Kiinteistönhoito (TOL 81100)
Osoite
Vuorikatu 3, 00014 Helsingin Yliopisto
Rekisteröity
15.6.2017
Ennakkoperintärekisteri
Rekisterissä
Arvonlisävero
Arvonlisäverovelvollinen
Työnantajarekisteri
Rekisterissä

Taloustiedot

VerovuosiVerotettava tuloMaksuunpannut verot
2024208 264,71 €42 346,87 €
202335 444,18 €7 088,84 €
2022139 407,24 €28 334,38 €
20210 €0 €
2020162 685,45 €33 071,49 €
Verotuksen lisätiedot
  • 2024: säännönmukaisen verotuksen palautus 2 065,53 €, jäännösvero 0 €
  • 2023: säännönmukaisen verotuksen palautus 93,06 €, jäännösvero 0 €
  • 2022: ennakot 28 788,15 €, säännönmukaisen verotuksen palautus 453,77 €, jäännösvero 0 €
  • 2021: ennakot 0 €, säännönmukaisen verotuksen palautus 0 €, jäännösvero 0 €
  • 2020: ennakot 37 082,79 €, säännönmukaisen verotuksen palautus 4 011,3 €, jäännösvero 0 €

Lähteet: Verohallinnon avoin data . Verotettava tulo ei ole liikevaihto eikä kirjanpidon tilikauden tulos. Aineistot CC BY 4.0.

Onko tämä yrityksesi?

Täydennä kotisivun osoite ja kirjoita kuvaus itse. Se on ilmaista eikä vaikuta sijoitukseen — maksu ostaa sijan listalla.

Osoitteen pitää olla samassa verkkotunnuksessa kuin sivusto: osoitteesta matti@yritys.fi voi vahvistaa sivuston yritys.fi. Sähköpostia käytetään vain tähän vahvistukseen eikä sitä julkaista.

Miten järjestys määräytyy: sijoituksen ratkaisee yksinomaan yrityksen maksama sijoitustarjous, suurin ensin. Samansuuruisista tarjouksista korkeammalle jää se, joka saavutti summan ensin.

Perustiedot: Patentti- ja rekisterihallitus ja Verohallinto, YTJ-avoin data (CC BY 4.0). Sijoitus perustuu maksettuun tarjoukseen. Onko verkkosivu-, kuvaus- tai puhelintiedossa virhe? Katso ohjeet.